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          一種激光照排設備的下片緩存系統

            摘要:本實用新型涉及一種激光照排設備的下片緩存系統,激光照排設備包括激光照排機和設于其出片口外側的對接裝置,下片緩存系統包括配合設置的下片緩存機構和下片緩存電路,下片緩存電路包括電源模塊及與電源模塊分別連接的控制模塊、翻板檢測模塊、膠片檢測模塊和運算模塊,翻板檢測模塊、膠片檢測模塊分別與運算模塊和控制模塊順次連接;下片緩存機構包括配合設置的膠片存儲裝置和膠片檢測裝置,膠片存儲裝置設于激光照排機出片口內側,膠片檢測裝置設于對接裝置上;翻板檢測模塊設于膠片存儲裝置上,膠片檢測模塊設于膠片檢測裝置上。本實用新型縮短出片過程中膠片與對接裝置的接觸時間,膠片壽命增加,不易刮傷,工作效率高,出片快,節約成本。
          • 專利類型實用新型
          • 申請人杭州萬德激光有限公司;
          • 發明人楊松林;朱美娟;
          • 地址310012 浙江省杭州市西湖區學院路83號617室
          • 申請號CN201320172670.2
          • 申請時間2013年04月09日
          • 申請公布號CN203210823U
          • 申請公布時間2013年09月25日
          • 分類號B41B21/32(2006.01)I;B41B27/28(2006.01)I;
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