摘要：本實用新型公開了一種真空爐，涉及用于半導體器件、金屬材料的熱處理和還原性燒結工藝，也可用于炭化試驗。所要解決的技術問題是傳統的真空爐滿足不了高溫工藝實驗的要求，不能在高溫時連續抽真空，爐膛溫度不均勻等。其技術要點是機械框架為立式結構，上部固定爐膛，里面裝有真空系統，底部裝有滾輪。爐膛由真空罐和加熱腔組成，真空罐由雙層鋼板焊成密封圓桶形，前門可開啟式，帶手動鎖緊裝置，頂部裝有壓力表、安全閥、放氣閥，側面布置有電源線接口，加熱腔中耐火層選用莫來石纖維制品，加熱選用U型硅鉬棒，機械框架側面裝有循環冷卻水接口。本實用新型滿足了高溫工藝實驗的要求，實現了高溫時連續抽真空，爐膛溫度均勻。
- 專利類型實用新型
- 申請人合肥高歌熱處理應用技術有限公司;
- 發明人譚宏勝;呂文強;杜可棟;趙鳳;
- 地址231131 安徽省合肥市雙鳳工業區金藏路006號
- 申請號CN201120173361.8
- 申請時間2011年05月27日
- 申請公布號CN202092460U
- 申請公布時間2011年12月28日
- 分類號F27B17/02(2006.01)I;F27D1/10(2006.01)I;F27D7/06(2006.01)I;
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