摘要：本發明公開了一種瓷負型造跡的方法，先用泥與釉料混合（形成自己想要的色彩），再用此釉料及泥在泥胎上塑造自己想要的形態，待釉料干燥后，再剔除使剝離泥及釉料而殘留下跡象即“負型”，再進窯爐燒制而成瓷?；蛘咴谝呀浭┝擞粤系哪嗵ド纤茉焖枰男?，等待干燥后剝離所造正型，在此前釉料上留下負型痕跡。本發明瓷負型造跡的方法能夠有效地減低釉料由于熱膨脹拉伸或冷切導致的釉斷泥胎、泥板的現象發生，減少由于釉料堆積過高、過厚而引起的“縮釉”現象發生。
- 專利類型發明專利
- 申請人常熟理工學院;
- 發明人王昭旻;
- 地址215500 江蘇省蘇州市常熟市南三環99號
- 申請號CN201510269390.7
- 申請時間2015年05月25日
- 申請公布號CN104924828A
- 申請公布時間2015年09月23日
- 分類號B44C5/00(2006.01)I;
教育裝備采購網在線客服
京公網安備11010802043465號
