摘要：一種耐高溫高壓萃取池，包括壓帽、密封墊、萃取池體、定位密封環，萃取池體內設有流體通道，定位密封環內設有流體通道，所述定位密封環的下端面沿圓周設有密封環凸臺，所述萃取池體的上、下端面沿圓周分別設有池體凸臺，所述密封墊的上、下端面沿圓周分別設有上凹槽和下凹槽，所述密封環凸臺與上凹槽接觸密封，所述池體凸臺與下凹槽接觸密封；在密封墊和定位密封環的外圓周設有固定圈；壓帽上部與定位密封環相固定，下部與萃取池體相連。本發明耐高溫高壓萃取池結構簡單、密封可靠性高。
- 專利類型發明專利
- 申請人北京吉天儀器有限公司;
- 發明人葉建平;顧愛平;裴曉華;史俊穩;
- 地址100016 北京市朝陽區酒仙橋東路1號6座西4層北京吉天儀器有限公司
- 申請號CN200810119516.2
- 申請時間2008年09月02日
- 申請公布號CN101468261B
- 申請公布時間2010年12月08日
- 分類號B01D11/00(2006.01)I;
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