<acronym id="pokdi"><strong id="pokdi"></strong></acronym>
      <acronym id="pokdi"><label id="pokdi"><xmp id="pokdi"></xmp></label></acronym>

      <td id="pokdi"><ruby id="pokdi"></ruby></td>
      <td id="pokdi"><option id="pokdi"></option></td>
      <td id="pokdi"></td>

        1. 首頁
        2. 裝備資訊
        3. 熱點專題
        4. 人物訪談
        5. 政府采購
        6. 產品庫
        7. 求購庫
        8. 企業庫
        9. 品牌排行
        10. 院校庫
        11. 案例·技術
        12. 會展信息
        13. 教育裝備采購網首頁 > 知識產權 > 專利 > CN100439563C

          化學氣相沉積設備

            摘要:本發明涉及高熔點金屬(難熔金屬及貴金屬)化學氣相沉積制備所用的專用設備。設備由3部分組成:(一)主體結構;(二)動力傳動裝置;(三)氣體調配系統。主體部分結構由5個功能部件組成,分別為:沉積室(I),密封室(II),蝸輪箱(III),升降操縱箱(IV),熱電勢信號接轉裝置(V)。本發明在于實現基體沉積件在高溫、高真空或多種氣氛(氬氣、氧氣、氯氣、一氧化碳以及甲烷等)條件下,按設定參數進行材料的沉積,基體可進行軸向圓周、螺旋以及自動循環運動。輸入溫度、氣氛壓力和流量均可精確控制。所制備的難熔金屬和貴金屬材料的致密性達到或接近理論密度,硬度(耐磨性)超過熔鑄和粉末冶金法生產的同類材料。
          • 專利類型發明專利
          • 申請人貴研鉑業股份有限公司;
          • 發明人胡昌義;雷春明;毛勇;郭錦新;李靖華;周世平;徐云;王云;歐陽遠良;
          • 地址650221云南省昆明市二環北路核桃箐
          • 申請號CN200510010838.X
          • 申請時間2005年06月06日
          • 申請公布號CN100439563C
          • 申請公布時間2008年12月03日
          • 分類號C23C16/44(2006.01);C23C16/455(2006.01);C23C16/46(2006.01);C23C16/458(2006.01);
          99久久国产自偷自偷免费一区|91久久精品无码一区|国语自产精品视频在线区|伊人久久大香线蕉av综合

            <acronym id="pokdi"><strong id="pokdi"></strong></acronym>
              <acronym id="pokdi"><label id="pokdi"><xmp id="pokdi"></xmp></label></acronym>

              <td id="pokdi"><ruby id="pokdi"></ruby></td>
              <td id="pokdi"><option id="pokdi"></option></td>
              <td id="pokdi"></td>